超高真空多腔体电子束镀膜机作为制备高性能光学、半导体及功能薄膜的核心装备，集超高真空、精密电子束控制与多腔协同传输于一体。其系统复杂、环境敏感，运行中常因真空泄漏、靶材异常、膜层不均等问题导致工艺失败。若处理不当，不仅影响成膜质量，还可能造成设备损伤或长时间停机。科学识别超高真空多腔体电子束镀膜机出现故障的根源并采取针对性措施，是保障镀得稳、膜得匀、产得顺的关键。一、极限真空无法达到或迅速回升原因...